[发明专利]具有装载/卸载装置和反应器的用于外延生长的反应室

摘要

一种用于外延生长的反应器的反应室，包括：‑具有凹部的壁(1)，‑衬托器(7)，其包括主体和凸起，其中所述主体相对于所述壁(1)以旋转方式放置在所述凹部中，‑圆盘状支撑元件(8)，其具有适合于稳定地放置在所述凸起上的形状，具有使得从所述凸起径向地突出的尺寸并且适合于支撑将经历外延生长的一个或更多个基底，和‑平坦覆盖物(91，92)，其位于所述壁(1)的上方并且具有在所述圆盘状支撑元件(8)处的孔(10)；其中所述孔(10)的形状对应于所述圆盘状支撑元件(8)的形状；其中所述覆盖物(92)具有用于装载/卸载所述圆盘状支撑元件(8)的装置(16)的通行的至少一个中空导引件(11，12)，其中所述中空导引件(11，12)从所述覆盖物(92)的边缘开始延伸至所述孔(10)。

主权项

1.一种用于外延生长的反应器的反应室，包括：‑壁(1)，其具有凹部，‑衬托器(7)，其包括主体和凸起，其中所述主体相对于所述壁(1)以旋转方式放置在所述凹部中，‑圆盘状支撑元件(8)，其适合于稳定地放置在所述凸起上，所述圆盘状支撑元件(8)具有带有使得从所述凸起径向地突出的尺寸的形状，并且适合于支撑将经历外延生长的一个或更多个基底，和‑平坦覆盖物(91，92)，其位于所述壁(1)的上方并且具有在所述圆盘状支撑元件(8)处的孔(10)；其中所述孔(10)的形状对应于所述圆盘状支撑元件(8)的形状；其中所述平坦覆盖物(92)具有用于装载/卸载所述圆盘状支撑元件(8)的装置(16)的通行的至少一个中空导引件(11，12)，其中所述中空导引件(11，12)从所述平坦覆盖物(92)的边缘开始延伸至所述孔(10)；其中，所述平坦覆盖物(92)具有第一中空导引件(11)和第二中空导引件(12)，其中所述第一中空导引件和第二中空导引件(11，12)从所述平坦覆盖物(92)的边缘开始延伸至所述孔(10)。