[发明专利]用于借助于光学投影断层扫描术研究样品的方法和设备有效
| 申请号： | 201480068833.X | 申请日： | 2014-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN105874317B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | W·克内贝尔;W·福格;F·希克曼 | 申请（专利权）人： | 徕卡显微系统复合显微镜有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G02B21/00;G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 王勇;王博 |
| 地址： | 德国韦*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于样品(9)的断层扫描术研究的方法，在该方法中样品(9)采用照射光束(3)照射，并且在该方法中包含照射光束(3)的通过样品(9)透射的光的透射光束(10)采用透射检测器(13)检测。本发明进一步涉及用于样品(9)的断层扫描研究的设备。提供的是，照射光束(3)和透射光束(10)以相反的传播方向通过同一物镜(7)穿过。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 借助于 光学 投影 断层 扫描 研究 样品 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种用于借助于光学投影断层扫描术研究样品(9)的方法，在所述方法中样品(9)采用照射光束(3)照射，并且在所述方法中包含所述照射光束(3)的通过所述样品(9)透射的光的透射光束(10)采用透射检测器(13)检测，其中所述照射光束(3)和所述透射光束(10)以相反的传播方向通过同一物镜(7)被引导。
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