[发明专利]具有焦距变化的光学设备

摘要

本发明题为“具有焦距变化的光学设备”。本发明涉及一种具有焦距变化的光学设备(100)，该光学设备包括‑第一可变形膜(1)，‑第二可变形膜(2)，‑支撑件(3)，膜(1,2)中的每个膜的相应周边锚定区域(1c)被连接到该支撑件(3)，‑恒定体积的流体(4)，该恒定体积的流体(4)被包封在第一膜和第二膜之间，‑位于第一膜(1)的锚定区域(1c)和中心部分(1b)之间的第一膜的区域(1a)的致动设备(5)，该第一膜(1)被配置为通过在单一偏转方向上施加电致动电压而变形，以便使流体体积中的一些流体体积发生位移。第一膜(1)的中心部分(1b)具有足够的硬度，使得‑从其中致动设备(5)不活动的静止位置，在向致动设备(5)施加小于阈值的电致动电压时第一膜(1)仅在第一方向上变形，并且第二膜(2)变形，以吸收由第一膜(1)的变形导致的流体位移，以便使第一膜上的流体的压力最小化，以及‑在向致动设备(5)施加大于阈值的电致动电压时，第一膜的致动区域(1a)保持在第一方向上变形，在由致动设备(5)使流体(4)发生位移的压力的作用下，第一膜(1)的中心部分(1b)在与第一方向相反的第二方向上变形。

主权项

一种具有焦距变化的光学设备(100)，包括：‑可变形的第一膜(1)，‑可变形的第二膜(2)，‑支撑件(3)，所述膜(1，2)中的每个膜的相应周边锚定区域(1c，2c)被连接到所述支撑件(3)，‑恒定体积的流体(4)，所述恒定体积的流体(4)被包封在所述第一膜和所述第二膜之间，所述流体(4)产生所述第一膜和所述第二膜的力学耦接，‑第一膜的位于所述第一膜(1)的锚定区域(1c)和中心部分(1b)之间的区域(1a)的致动设备(5)，所述致动设备(5)被配置为通过在单一偏转方向上施加电致动电压而变形，以便使流体体积中的一些流体体积发生位移，流体的所述位移易于使得所述第一膜的所述中心部分(1b)变形，所述光学设备(100)的特征在于所述第一膜(1)的所述中心部分(1b)具有足够的硬度，使得：‑从其中所述致动设备(5)不活动的静止位置，在向所述致动设备(5)施加小于阈值的电致动电压时，所述第一膜(1)仅在第一方向上变形，并且所述第二膜(2)变形，以吸收由所述第一膜(1)的变形导致的流体位移，以便使所述第一膜上的流体的压力最小化，以及‑在向所述致动设备(5)施加大于所述阈值的电致动电压时，所述第一膜的致动区域(1a)保持在所述第一方向上变形，在被所述致动设备(5)位移的流体(4)的压力的作用下，所述第一膜(1)的所述中心部分(1b)在与所述第一方向相反的第二方向上变形。