[发明专利]用于加工难切削材料和铸铁的α-氧化铝薄膜

摘要

本发明涉及一种α‑氧化铝(α‑Al₂O₃)薄膜，所述α‑Al₂O₃薄膜通过控制在基材上形成的下部层及在所述下部层上形成的α‑Al₂O₃薄膜层的成核速度和生长速度而具有显著提高的α‑Al₂O₃薄膜层粘合强度。本发明的所述α‑Al₂O₃薄膜包括：在由硬质合金制成的基材上形成的下部层；以及在所述下部层上形成的α‑Al₂O₃薄膜层，其中，当所述α‑Al₂O₃薄膜层从其总厚度(T)分为从界面层到0.15T的D1层、从0.15T到0.4T的D2层和从0.4T到1T的D3层时，S1(D3层粒度/D1层粒度)为2～5.5且S2(D2层粒度/D1层粒度)为1.5～4。

主权项

1.一种α‑Al₂O₃薄膜，其具有厚度T并且形成在下部层上，所述下部层形成在基材上，所述α‑Al₂O₃薄膜分为：位于界面层和所述界面层上方0.15T之间的D1层；位于所述界面层上方0.15T和0.4T之间的D2层；位于所述界面层上方0.4T和1T之间的D3层，其中，作为D3层粒度与D1层粒度之比的S1为2～5.5，作为D2层粒度与D1层粒度之比的S2为1.5～4；所述D1层的粒度为0.1μm～0.5μm；所述D2层的粒度为0.15μm～0.8μm；并且所述D3层的粒度为0.4μm～1.5μm；其中，所述下部层包括：在所述基材上形成的TiN层；在所述TiN层上形成的MT‑TiCN层；和在所述MT‑TiCN层上形成的包含Ti的界面层；其中，所述界面层包含：在所述MT‑TiCN层上形成的Ti_xAl_1‑xCNO层；在所述Ti_xAl_1‑xCNO层上形成的Al_yTi_1‑yCNO层；和在所述Al_yTi_1‑yCNO层上形成的Ti氧化物层；其中，D1层、D2层和D3层通过不同沉积条件形成。