[发明专利]W-Ni溅镀靶有效
| 申请号： | 201480069873.6 | 申请日： | 2014-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN105849633B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 克里斯汀·林克;托马斯·谢勒 | 申请（专利权）人： | 攀时奥地利公司 |
| 主分类号： | G02F1/1523 | 分类号： | G02F1/1523;C22C27/04;B22F3/02;C22C1/04;B22F3/10;C22C19/03;C22F1/18;C23C14/34;B22F3/16;B22F3/17;C22F1/10;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 张天舒;张杰 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 奥地利;AT |
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| 摘要： | 本发明是关于制造W‑Ni溅镀靶的方法以及其用途。本发明同样是关于含有45重量％至75重量％的W、余量Ni及一般杂质的溅镀靶，其含有Ni(W)相、W相且不含或含有小于10％金属间相。 | ||
| 搜索关键词： | ni 溅镀靶 | ||
【主权项】：
1.一种溅镀靶，所述溅镀靶含有45重量％至75重量％W、余量Ni及一般杂质，其特征在于所述溅镀靶含有Ni(W)相、W相且不含或含有以靶材截面量测的平均面积比例小于10％的金属间相。
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