[发明专利]含有主链具有三嗪环及硫原子的共聚物的抗蚀剂下层膜形成用组合物

摘要

本发明提供一种新型的抗蚀剂下层膜形成用组合物。所述抗蚀剂下层膜形成用组合物包含具有下述式(1)所示的结构单元及下述式(2)所示的结构单元的共聚物、交联性化合物、交联催化剂以及溶剂。(式中，A表示含三嗪环的2价的有机基团，X¹表示‑S‑基或‑O‑基，Q表示碳原子数1～15的直链状、支链状或环状的烃基，该烃基可以在主链上具有至少1个硫原子或氧原子，也可以具有至少1个羟基作为取代基，n表示0或1，R¹及R²各自独立地表示碳原子数1～3的亚烷基或单键，Z表示具有至少1个硫原子或氧原子的2价的基团，X¹表示‑O‑基时，Z表示具有至少1个硫原子的2价的基团。)

主权项

1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有下述式(1)所示的结构单元及下述式(2)所示的结构单元的共聚物、交联性化合物、交联催化剂以及溶剂，式中，A表示含三嗪环的2价的有机基团，X¹表示‑S‑基或‑O‑基，Q表示碳原子数1～15的直链状、支链状或环状的烃基，该烃基可以在主链上具有至少1个硫原子或氧原子，也可以具有至少1个羟基作为取代基，n表示0或1，R¹及R²各自独立地表示碳原子数1～3的亚烷基或单键，Z表示具有至少1个硫原子或氧原子的2价的基团，X¹表示‑O‑基时，Z表示具有至少1个硫原子的2价的基团。