[发明专利]光学材料用组合物及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201480070439.X 申请日: 2014-12-19
公开(公告)号: CN105849155B 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 堀田明伸;今川阳介;嘉村辉雄;堀越裕 申请(专利权)人: 三菱瓦斯化学株式会社
主分类号: C08G75/06 分类号: C08G75/06;G02B1/04;G02B3/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 根据本发明,通过含有下述(a)化合物、下述(b)化合物、(c)多硫醇、以及(d)硫的光学材料用组合物能够使自模具的脱模性良好并且能够抑制产生残留剥落痕迹这种不良。(a)化合物:具有下述(1)式所表示的结构的化合物(式中,m表示0~4的整数,n表示0~2的整数。)(b)化合物:具有下述(2)式所表示的结构的化合物(式中,m表示0~4的整数,n表示0~2的整数。)
搜索关键词: 光学材料 式中 多硫醇 脱模性 剥落 模具 残留 制造
【主权项】:
一种光学材料用组合物,其特征在于,其含有:下述(a)化合物、下述(b)化合物、(c)多硫醇、(d)硫以及预聚合催化剂,所述预聚合催化剂为咪唑类、膦类、硫脲类、或受阻胺,(a)化合物:具有下述(1)式所表示的结构的化合物,式(1)中,m表示0~4的整数,n表示0~2的整数,(b)化合物:具有下述(2)式所表示的结构的化合物,式(2)中,m表示0~4的整数,n表示0~2的整数,其中,将(a)化合物、(b)化合物、(c)多硫醇以及(d)硫的总量设为100质量%时,(a)化合物为50~90质量%,(b)化合物为0.05~10质量%,(c)多硫醇为1~20质量%,(d)硫为8~50质量%。
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