[发明专利]基板处理装置有效
申请号: | 201480070511.9 | 申请日: | 2014-12-10 |
公开(公告)号: | CN105849865B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 诸成泰;李在镐;崔晌镐;尹胜铉 | 申请(专利权)人: | 株式会社EUGENE科技 |
主分类号: | H01L21/205 | 分类号: | H01L21/205;H01L21/683 |
代理公司: | 北京纽盟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11456 | 代理人: | 许玉顺 |
地址: | 韩国京畿道龙*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 根据本发明的一实施例,基板处理装置包括:腔,提供对基板实施工序的内部空间;基座,设置在上述内部空间,且在上部放置上述基板;固定板,设置在沿着上述基座的周边在上述腔的侧壁形成的排气口上,并具有多个贯通孔;及一个以上的滑动板,设置在上述固定板的上部或下部,能够以上述基座的中心为基准旋转,选择性地开闭上述多个贯通孔。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基板处理装置,其特征在于,包括:腔,提供对基板实施工序的内部空间;基座,设置在上述内部空间,且在上部放置上述基板;固定板,设置在沿着上述基座的周边在上述腔的侧壁形成的排气口上,并具有多个贯通孔;及一个以上的滑动板,设置在上述固定板的上部或下部,能够以上述基座的中心为基准旋转,选择性地开闭上述多个贯通孔,上述滑动板还具备:上部板,配置在上述固定板的上部,贯通形成有排出孔;及侧面板,沿着上述上部板的外周面连接而能够沿着上述腔的侧壁移动,并具备磁体,上述基板处理装置还包括:外壳:与上述腔的外壁分开距离设置,提供从外部遮断的运送路径;遮断板,设置在上述外壳内,将上述运送路径划分为多个运送区间;磁铁,分别设置在上述运送区间,向上述侧面板施加磁力而可以一起移动;弹性部件,分别设置在上述遮断板和上述磁铁之间,向上述磁铁提供弹力;以及液压线路,分别设置在上述运送区间,提供液压而使上述磁铁可向上述遮断板移动。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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