[发明专利]含氟交联体的制造方法及其使用有效
| 申请号： | 201480071118.1 | 申请日： | 2014-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN105849159B | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | 杉山徳英;山崎龙二郎;斋藤贡;浅川昭彦;大仓雅博;和田真治 | 申请（专利权）人： | AGC株式会社 |
| 主分类号： | C08J3/28 | 分类号： | C08J3/28;C08F14/18 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供HF的产生量少、稳定性优异的含氟交联体的制造方法。一种含氟交联体的制造方法，其中，对具有下式(1)所示的单元的含氟聚合物照射波长150～300nm的活性能量射线。(式(1)中，X1及X2各自独立地为氢原子或氟原子，Rf1为氟亚烷基、或在碳‑碳原子间具有醚性氧原子的碳数2以上的氟亚烷基，Q1为单键或醚性氧原子，Z1为OH、OR1或NR2R3，R1为烷基，R2及R3各自独立地为氢原子或烷基。) |
||
| 搜索关键词： | 含氟交 联体 制造 方法 及其 使用 | ||
【主权项】：
1.一种含氟交联体的制造方法，其特征在于，在氮气气氛下，对具有下式(1)所示的单元的含氟聚合物照射波长150～300nm的活性能量射线，![]()
式(1)中，X1及X2各自独立地为氢原子或氟原子，Rf1为氟亚烷基、或在碳‑碳原子间具有醚性氧原子的碳数2以上的氟亚烷基，Q1为单键或醚性氧原子，Z1为OH、OR1或NR2R3，R1为烷基，R2及R3各自独立地为氢原子或烷基,所述含氟聚合物的质均分子量为3000～20000，具有式(1)所示的单元的含氟聚合物中的四氟乙烯单元的含量超过0摩尔％且为65摩尔％以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AGC株式会社，未经AGC株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480071118.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
