[发明专利]利用谱去卷积进行谱分析有效

专利信息
申请号: 201480071435.3 申请日: 2014-11-07
公开(公告)号: CN105849536B 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: D·沙扎尔;M·菲奥雷 申请(专利权)人: 普拉德研究及开发股份有限公司
主分类号: G01N23/02 分类号: G01N23/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 卢亚静
地址: 英国维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种用于推断在检测器处的电磁能量的入射计数率的方法。在一个实施例中,所述方法包括:使电磁辐射传输通过流体;在检测器处接收电磁辐射的一部分。所述方法还包括:测量由所述检测器接收到的电磁辐射的所述一部分的能谱;以及使用所测能谱和对电磁辐射的检测器响应的物理模型来推断由所述检测器接收到的电磁辐射的所述一部分的离散能级的入射计数率。还公开了另外的系统、设备和方法。
搜索关键词: 利用 卷积 进行 谱分析
【主权项】:
一种方法,包括:使电磁辐射传输通过流体;在检测器处接收电磁辐射的一部分;测量由所述检测器接收到的电磁辐射的所述一部分的能谱;以及使用所测能谱和对电磁辐射的检测器响应的物理模型来推断由所述检测器接收到的电磁辐射的所述一部分的离散能级的入射计数率。
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