[发明专利]用于量测目标的设计的方法和设备有效
| 申请号： | 201480071609.6 | 申请日： | 2014-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN105874388B | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 陈光青;埃里克·R·肯特;王祯祥;欧麦·A·O·亚当 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 描述了一种量测目标设计的方法。该方法包括：确定量测目标设计的参数对于光学像差的灵敏度、基于所述灵敏度与光学系统的像差的乘积确定在对于量测目标设计的参数的影响与对于使用光刻设备的光学系统进行曝光的产品设计的参数的影响之间的差异。该方法还包括：确定量测目标设计的参数对于多个像差中的每个像差的灵敏度；和基于所述灵敏度与用于光学系统的相应的像差的乘积的总和来确定对于量测目标设计的参数的影响。该参数可以是重叠误差、临界尺寸和聚焦。该像差可以在曝光狭缝上有所不同，但是灵敏度基本上独立于狭缝位置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 目标 设计 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种量测目标设计的方法，所述方法包括：确定量测目标设计的参数对于光学像差的灵敏度；和基于使用光刻设备的光学系统来曝光的产品设计的所述参数以及所述灵敏度与光学系统的相应的像差的乘积来确定对于所述量测目标设计的所述参数的影响。
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