[发明专利]OBM电阻率成像中的双模式平衡有效

专利信息
申请号: 201480072148.4 申请日: 2014-11-20
公开(公告)号: CN106068465B 公开(公告)日: 2018-12-14
发明(设计)人: A·N·别斯帕洛夫;G·B·伊茨科维奇 申请(专利权)人: 贝克休斯公司
主分类号: G01V3/06 分类号: G01V3/06;G01V3/24
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 曹瑾
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于评估地层的方法、系统和装置。方法可包括:将载体传送到地层钻孔中;以及在一种测量模式中,在进行第一电流测量时,通过将电压施加到第一组传感器阵列中的每个测量电极,进行电流测量;以及在进行第二电流测量时,将另一高频电压施加到第二组传感器阵列中的每个测量电极。可选地,方法包括在另一种测量模式中,在进行第三电流测量时,通过将电压施加到两组传感器阵列中的每个测量电极,使用测量电极进行进一步电阻率测量。方法包括组合第一电流测量、第二电流测量和第三电流测量以模拟每个测量电极的虚拟阻抗。可选地,在工具主体的圆周周围的任何两个连续传感器阵列处于不同的组中。
搜索关键词: obm 电阻率 成像 中的 双模 平衡
【主权项】:
1.一种用于评估由钻孔贯穿的地层的方法,其使用与多个传感器阵列上的测量电极相关联的载体,所述传感器阵列包括第一组传感器阵列和第二组传感器阵列,其中所述多个传感器阵列中的每个传感器阵列包括所述测量电极中的至少一个测量电极,所述方法包括:将所述载体传送到所述钻孔中;以及在第一测量模式中,使用所述测量电极进行指示所述地层的电阻率参数的第一电流测量,其中在进行所述第一电流测量时,通过将第一电压施加到所述多个传感器阵列中的每个测量电极,进行所述第一电流测量;以及在第二测量模式中,使用所述测量电极进行指示所述地层的所述电阻率参数的进一步电流测量,包括:在进行第二电流测量时,将第二电压施加到所述第一组传感器阵列中的每个测量电极;以及在进行第三电流测量时,将与所述第二电压的极性相反的第三电压施加到所述第二组传感器阵列中的每个测量电极;以及组合所述第一电流测量、所述第二电流测量和所述第三电流测量以模拟每个测量电极的虚拟阻抗。
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