[发明专利]用于减少拜耳工艺中的硅铝酸盐垢的基于表面活性剂的小分子有效
| 申请号： | 201480072801.7 | 申请日： | 2014-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN105899460B | 公开（公告）日： | 2018-10-19 |
| 发明（设计）人： | 卡尔·尼古拉斯·乌尔巴尼;蒂莫西·拉;约翰·大卫·基尔德 | 申请（专利权）人： | 纳尔科公司 |
| 主分类号： | C01F7/00 | 分类号： | C01F7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;冷永华 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了用于抑制拜耳工艺设备的料液回路中的DSP垢积累的方法和组合物。所述方法包括向料液流体回路中添加一种或更多种基于GPS‑表面活性剂的小分子。这些垢抑制剂减少了DSP垢形成，由此增加了流体通过量，增加了拜耳工艺设备可以运行的时间的量并减少了对拜耳工艺设备昂贵且危险的酸洗涤的需求。因此，本发明使运行拜耳工艺的总成本显著降低。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 减少 工艺 中的 硅铝酸盐垢 基于 表面活性剂 分子 | ||
【主权项】：
1.一种减少拜耳工艺中包含硅铝酸盐的垢的方法，包括：向拜耳料液中添加硅铝酸盐垢减少量的由以下物质反应产生的非聚合反应产物：表面活性剂、胺型粘合剂、环氧型粘合剂、以及缩水甘油醚氧基烷基三甲氧基硅烷，其中所述表面活性剂是十二烷基‑1,3‑丙二胺。
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