[发明专利]原子层沉积装置及方法

摘要

在本发明的原子层沉积中，以层叠的形态配置多个上部和下部的分离和结合可行的、用于进行原子层沉积工序的单位工序腔室，并且使向工序腔室搬入或搬出原子层沉积对象基板的搬入/搬出腔室按照一字形与工序腔室连接，由此基板按照搬入腔室、工序腔室、搬出腔室的顺序移送，并且连续地进行工序，从而能够提高原子层沉积工序的效率。另外，将多个原子层沉积装置按照一字形连接，或者以搬入/搬出腔室为中心，在两侧按照一字形连接多个原子层沉积装置，从而设置原子层沉积装置的空间即使受到天花板高度的制约，也能够确保多个工序腔室的数量，因此能够提高生产效率，提高工序效率。此外，能够根据薄膜的种类、厚度等特性，对在各个工序腔室中形成的成膜厚度进行分割，来进行成膜工序，或者能够形成薄膜1、薄膜2、薄膜3等各种复合薄膜。

主权项

一种原子层沉积装置，其特征在于，包括：工序腔室，具有上部工序腔室和下部工序腔室，在原子层沉积工序对象基板的装载或者卸载时，使所述上部工序腔室与所述下部工序腔室分离，在对所述基板进行沉积工序时，使所述上部工序腔室与所述下部工序腔室相结合而形成密封的反应空间；真空腔室，对所述工序腔室进行支撑，使所述工序腔室所在空间维持在真空状态；搬入腔室，与所述真空腔室按照一字形连接，利用使所述基板向上下左右移动的驱动机构，向所述工序腔室搬入所述基板；搬出腔室，与所述真空腔室按照一字形连接，利用所述驱动机构，从所述工序腔室搬出执行了所述原子层沉积工序的基板；所述下部工序腔室包括基板移送部，该基板移送部对从所述搬入腔室向所述工序腔室搬入的所述基板进行支撑，使支撑的所述基板向左右方向移送。