[发明专利]用于分析包含至少第一和第二阻垢剂的样品的方法有效
| 申请号： | 201480073518.6 | 申请日： | 2014-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN105917215B | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 维萨·努蒂南;S·托伊沃宁;J·约翰斯顿;H·哈尔马;M·莱姆斯托;S·蒂塔宁;P·瓦伊萨宁;J·西沃宁;P·蒙迪尔 | 申请（专利权）人： | 凯米罗总公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N21/77 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 吴小瑛 |
| 地址： | 芬兰赫*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于分析包含至少第一和第二阻垢剂的样品的方法，其中阻垢剂为包含至少一个离子化基团的合成有机化合物。该方法包括任选地使样品稀释和/或纯化，并且使样品与包含镧系元素(III)离子的试剂相互作用。样品在第一激发波长被激发，并且通过使用时间分辨发光测量检测在信号波长下衍生自镧系元素(III)离子的样品信号。通过使用所检测的样品信号来测定第一和第二阻垢剂的总浓度，并测定样品中第一阻垢剂的浓度。通过使用所获得的总浓度和第一阻垢剂浓度的结果来算术地测定第二阻垢剂的浓度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分析 包含 至少 第一 第二 阻垢剂 样品 方法 | ||
【主权项】：
1.用于分析包含至少第一和第二阻垢剂的样品的方法，其中阻垢剂为包含至少一个离子化基团的合成有机化合物，所述方法包括：‑任选地使所述样品稀释和/或纯化，‑使所述样品与包含镧系元素(III)离子的试剂相互作用，‑使样品在第一激发波长激发，并通过使用时间分辨发光测量法检测在信号波长下衍生自镧系元素(III)离子的样品信号，和‑通过使用所检测的样品信号来测定所述第一和第二阻垢剂的总浓度，‑测定所述样品中所述第一阻垢剂的浓度，‑通过使用所获得的总浓度和所述第一阻垢剂的浓度的结果来算术地测定所述第二阻垢剂的浓度。
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