[发明专利]检查方法和设备以及光刻设备在审
| 申请号： | 201480074167.0 | 申请日： | 2014-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN105934716A | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | A·J·登博夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/956 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种检查方法和设备以及相关光刻设备。检查方法包括使用选择波长的检查辐射照射结构，结构是包括多个层的类型(例如3D存储器结构)。检测得到的衍射信号，从所述衍射信号确定所述层的子集的物理属性。确定了所述物理属性的层的子集取决于检查辐射的选择波长。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 方法 设备 以及 光刻 | ||
【主权项】：
一种检查方法，包括：使用至少一个选择波长的检查辐射来照射结构，其中所述结构包括多个层；检测源自所述结构的所述照射的衍射信号；以及根据所述衍射信号确定所述层的子集的属性，确定了所述属性的层的所述子集取决于所述检查辐射的选择波长。
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