[发明专利]膜形成用组合物

摘要

本发明通过使用含有包含例如由下述式(17)表示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、交联剂、紫外线吸收剂、以及光稳定剂的光固化型膜形成用组合物，能够制作高折射率且耐候性良好的固化膜。

主权项

膜形成用组合物，其特征在于，其含有包含由下述式(1)表示的重复单元结构的含三嗪环聚合物、交联剂、紫外线吸收剂、以及光稳定剂：[化1]{式中，R和R'相互独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基、或者芳烷基；Ar表示选自式(2)～(13)所示物组中的至少1种，[化2]〔式中，R¹～R⁹²相互独立地表示氢原子、卤素原子、羧基、磺基、碳数1～10的可具有支链结构的烷基、或者碳数1～10的可具有支链结构的烷氧基；R⁹³和R⁹⁴表示氢原子或者碳数1～10的可具有支链结构的烷基；W¹和W²相互独立地表示单键、CR⁹⁵R⁹⁶(R⁹⁵和R⁹⁶相互独立地表示氢原子或者碳数1～10的可具有支链结构的烷基(其中，它们也可以一起形成环))、C＝O、O、S、SO、SO₂、或者NR⁹⁷(R⁹⁷表示氢原子或者碳数1～10的可具有支链结构的烷基)；X¹和X²相互独立地表示单键、碳数1～10的可具有支链结构的亚烷基、或者由式(14)表示的基团：[化3](式中，R⁹⁸～R¹⁰¹相互独立地表示氢原子、卤素原子、羧基、磺基、碳数1～10的可具有支链结构的烷基、或者碳数1～10的可具有支链结构的烷氧基；Y¹和Y²相互独立地表示单键或者碳数1～10的可具有支链结构的亚烷基)〕}。