[发明专利]制造集成计算元件的方法及包含集成计算元件的光学计算系统有效
| 申请号： | 201480075273.0 | 申请日： | 2014-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN106030035B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | D·L·珀金斯;M·T·佩尔蒂埃;J·M·普赖斯 | 申请（专利权）人： | 哈里伯顿能源服务公司 |
| 主分类号： | E21B49/08 | 分类号： | E21B49/08;E21B47/002;G01N21/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 沙永生;乐洪咏 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开加工用于在光学计算装置中使用的集成计算元件的方法。一种方法包括：提供具有至少第一表面和与所述第一表面基本上相对的第二表面的基底；通过薄膜沉积过程使多个光学薄膜沉积在所述基底的所述第一表面和所述第二表面上，并从而产生多层膜堆叠装置；使所述基底分裂以便产生至少两个光学薄膜堆叠；以及将所述至少两个光学薄膜堆叠中的一个或多个固定到次级光学元件用于作为集成计算元件(ICE)使用。 | ||
| 搜索关键词： | 集成 计算 元件 制造 过程 | ||
【主权项】：
1.一种制造集成计算元件的方法，其包括：提供具有至少第一表面和与所述第一表面基本上相对的第二表面的基底；通过薄膜沉积过程使多个光学薄膜沉积在所述基底的所述第一表面和所述第二表面上，并从而产生至少两个多层膜堆叠装置，该多层膜堆叠装置包含与第二光学薄膜堆叠呈镜像的第一光学薄膜堆叠；使所述基底分裂以便产生至少两个光学薄膜堆叠；以及将所述至少两个光学薄膜堆叠中的一个或多个固定到次级光学元件用于作为集成计算元件(ICE)使用。
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