[发明专利]硅晶片的制造方法和硅晶片有效
申请号: | 201480076001.2 | 申请日: | 2014-11-19 |
公开(公告)号: | CN106030764B | 公开(公告)日: | 2018-10-30 |
发明(设计)人: | 神野清治;中岛亮;又川敏 | 申请(专利权)人: | 胜高股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;B24B27/06;B28D5/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘林华;李婷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 进行:丝线行进工序,通过使以螺旋状缠绕了波状丝线(7)的多个主辊旋转,从而使波状丝线(7)沿与主辊的轴方向大致正交的方向行进;和切断工序,通过将锭坯(T)推靠至波状丝线(7)而将锭坯(T)切断,制造以中央部相对于外缘部沿一个方向凹陷的圆顶状翘曲的多个硅晶片。 | ||
搜索关键词: | 晶片 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种硅晶片的制造方法,其特征在于进行:丝线行进工序,通过使以螺旋状缠绕了以波状弯折的波状丝线的多个主辊旋转,从而使所述波状丝线沿与所述主辊的轴方向大致正交的方向行进;和切断工序,通过将锭坯推靠至所述波状丝线而将所述锭坯切断,制造以中央部相对于外缘部而沿一个方向凹陷的圆顶状翘曲的多个硅晶片,所述切断工序:以将圆柱状的所述锭坯推靠至所述波状丝线时的所述锭坯的进给速度作为F,以所述波状丝线与所述锭坯的接触部分的长度作为L,控制所述锭坯的所述进给速度,从而对于圆柱状的所述锭坯中的该锭坯的径方向的切断位置,由以下的式(1)定义的作功量W以在所述锭坯的直径最大的切断位置处成为最大值的大致圆弧状变化,并且,以所述锭坯的直径最大的切断位置处的作功量作为Wmax,以将所述锭坯的直径最大的切断位置设为中心的所述锭坯的直径的50%的范围内的作功量作为Wcnt,满足由以下的式(2)示出的关系:W=F×L……(1),Wcnt≧0.85×Wmax……(2)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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