[发明专利]用于形成具有环形接触部的自旋转移扭矩存储器(STTM)元件的技术有效

专利信息
申请号: 201480076482.7 申请日: 2014-03-26
公开(公告)号: CN106104827B 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: B·S·多伊尔;D·L·肯克;K·奥乌兹;M·L·多齐;S·苏里;R·S·周;C·C·郭;R·戈利扎德莫亚拉德 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/12;G11C11/16
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了用于形成具有环形接触部以减小临界电流要求的自旋转移扭矩存储器(STTM)元件的技术。所述技术降低了对给定磁性隧道结(MTJ)的临界电流要求,因为环形接触部减小了接触尺寸并增大了局部电流密度,从而减小了转换MTJ的自由磁性层的方向所需的电流。在一些情况下,环形接触部包围防止电流通过的绝缘体层的至少一部分。在这样的情况下,电流穿过环形接触部并且在绝缘体层周围流动以在流经自由磁性层之前增大局部电流密度。绝缘体层可以包括电介质材料,并且在一些情况下是隧道材料,例如氧化镁(MgO)。在一些情况下,对于给定的MTJ,实现了至少10%的临界电流减小。
搜索关键词: 用于 形成 具有 环形 接触 自旋 转移 扭矩 存储器 sttm 元件 技术
【主权项】:
1.一种集成电路,包括:固定磁性层;自由磁性层,所述自由磁性层位于所述固定磁性层上方;隧穿阻挡层,所述隧穿阻挡层位于所述固定磁性层与所述自由磁性层之间;绝缘体层,所述绝缘体层位于所述自由磁性层上方;以及导电环形接触部,所述导电环形接触部包围所述绝缘体层的至少一部分并且电连接到所述自由磁性层,其中,所述绝缘体层包括不在所述导电环形接触部与所述自由磁性层之间的第一部分和在所述导电环形接触部与所述自由磁性层之间的较薄的第二部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480076482.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top