[发明专利]粒子射线治疗计划装置、及粒子射线照射的仿真方法

摘要

本发明包括：副射束近似步骤，所述副射束近似步骤使用分别具有高斯分布的多个副射束的集合对粒子射线进行近似；以及副射束剂量分布运算步骤，所述副射束剂量分布运算步骤通过对利用扫描装置将多个副射束的各自的副射束偏转而前进的状态进行仿真，从而运算各自的副射束在患者内部形成的各自的副射束剂量分布，通过将运算出的各自的副射束剂量分布进行累计，从而求出粒子射线在患者内部形成的剂量分布。

主权项

一种粒子射线治疗计划装置，包括运算单元，所述运算单元求出粒子射线治疗装置的向各照射位置照射的粒子射线的各自的照射量，所述粒子射线治疗装置使用将所述粒子射线朝与所述粒子射线的前进方向垂直的两方向即XY方向偏转来进行扫描的扫描装置，以使所述粒子射线反复进行移动和停留的方式进行扫描，将所述粒子射线每次停留时与照射对象即患者患部的所述粒子射线的能量对应的深度的位置作为各照射位置分别形成照射点，并且变更所述粒子射线的能量来变更所述照射点的深度方向的位置，从而在包括所述患部在内的所述患者内部形成三维的剂量分布，其特征在于，所述运算单元包括：副射束近似部，所述副射束近似部使用分别具有高斯分布的多个副射束的集合对所述粒子射线进行近似；副射束剂量分布运算部，所述副射束剂量分布运算部运算利用所述扫描装置将所述多个副射束的各自的副射束偏转而在所述患者上形成的副射束剂量分布，通过将运算出的所述副射束剂量分布进行累计，从而求出照射所述各照射位置的所述粒子射线在所述患者内部形成的各自的剂量分布；以及照射量优化部，所述照射量优化部利用优化计算求出向所述各照射位置照射的所述粒子射线的各自的照射量，以使将照射所述各照射位置的粒子射线在所述患者内部形成的各自的剂量分布进行累计而求出的在所述患者内部形成的总剂量分布成为治疗计划中设定的目标剂量分布。