[发明专利]一种用于减少疤痕形成的医药组合物和方法在审
| 申请号： | 201480077108.9 | 申请日： | 2014-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN106456659A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 王怡文;戴念梓 | 申请（专利权）人： | 戴念梓 |
| 主分类号： | A61K31/7088 | 分类号： | A61K31/7088;C12N15/11;A61P17/02 |
| 代理公司： | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙)11017 | 代理人： | 韩登营 |
| 地址： | 中国台湾*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及内容是有关于一种医药组合物，其用于一个有需要的个体以减少疤痕的形成。该医药组合物包含三种核酸及其药学上可接受的载体。本发明还涉及一种降低在一个有需要的个体减少疤痕的形成的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 减少 疤痕 形成 医药 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种用于减少疤痕形成的医药组合物，包含：一种有效量的第一核酸，其中所述第一核酸的序列包含SEQ ID NO.1所示的序列或与其相对应的DNA序列；一种有效量的第二核酸，其中所述第二核酸的序列包含SEQ ID NO.2所示的序列或与其相对应于的DNA序列；一种有效量的第三核酸，其中所述第三核酸的序列包含SEQ ID NO.3所示的序列或与其相对应的DNA序列；以及一种药学上可接受的载体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于戴念梓，未经戴念梓许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480077108.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：硒有机化合物的组合物和其使用方法
- 下一篇：用于色素性视网膜炎的基因疗法
