[发明专利]粒子射线照射装置

摘要

粒子射线照射装置(50)对一个照射位置(12)多次照射粒子射线(10)。存储部(3)存储各次应照射的剂量(分割目标剂量)。剂量监视器(5)测量照射至照射位置(12)的粒子射线(10)的剂量。第1次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达分割目标剂量后，控制部(4)发出遮断信号(15)。剂量监视器(5)测量从发出遮断信号(15)后至实际遮断粒子射线(10)的期间内照射的剂量(过剩剂量)(14)。然后设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量。也可以改设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量预测值。第2次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达校正剂量值后，控制部(4)发出遮断信号(15)。通过该校正，减少点扫描法中超出所计划的剂量的照射剂量。

主权项

1.一种粒子射线照射装置，具有：粒子射线产生输送装置，其对经过加速的粒子射线进行输送和遮断；扫描装置，其使自所述粒子射线产生输送装置输送出的所述粒子射线朝与前进方向垂直的2个方向偏转，使照射至照射对象上的照射位置移动；控制部，其控制所述粒子射线产生输送装置和所述扫描装置；以及剂量监视器，其测量所述粒子射线的剂量，该粒子射线照射装置对每个所述照射位置多次照射所述粒子射线，并在所述照射位置移动时遮断所述粒子射线，其特征在于，具有存储部，其存储所述照射位置的位置信息以及对所述照射位置照射1次的剂量即分割目标剂量，所述剂量监视器在所测量的剂量到达所述分割目标剂量的值时，测量从该到达时至遮断所述粒子射线的照射的期间内照射的过剩剂量，所述控制部在对所述照射位置实施第1次照射时，控制所述粒子射线产生输送装置和所述扫描装置，以重复下述动作直至到达位于所述照射对象的相同深度的最后的所述照射位置，即在利用所述剂量监视器测量出的与一个所述照射位置对应的测量剂量到达所述分割目标剂量的值时，使所述粒子射线产生输送装置遮断所述粒子射线的照射，并且使所述扫描装置进行与下一个所述照射位置对应的偏转控制，之后，再次使所述粒子射线产生输送装置开始照射所述粒子射线，在对所述照射位置实施第2次以后的照射时，控制所述粒子射线产生输送装置和所述扫描装置，以对位于所述照射对象的相同深度的所有所述照射位置重复下述动作直至事先指定的次数，即在利用所述剂量监视器测量出的与一个所述照射位置对应的测量剂量到达将所述分割目标剂量的值减去该照射位置的前一次的所述过剩剂量的值后的校正剂量值时，使所述粒子射线产生输送装置遮断所述粒子射线的照射，并且使所述扫描装置进行与下一个所述照射位置对应的偏转控制，之后，再次使所述粒子射线产生输送装置开始照射所述粒子射线。