[发明专利]处理发生于制程设备的废气的等离子体反应器在审
| 申请号： | 201480077937.7 | 申请日： | 2014-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN106170845A | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 高京吾;姜景斗;卢明根 | 申请（专利权）人： | 清洁要素技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种等离子体反应器，其设置于制程腔室与真空泵之间分解从制程腔室排出的废气，包括：导管，其供所述废气流动；等离子体生成部件，其设置于所述导管引起等离子体放电以分解所述废气；壳体，其环绕所述导管，且与所述导管的外周面之间形成有间隔空间；感测部件，其感测所述导管或所述间隔空间的环境条件；以及控制部，其根据从所述感测部件接收的所述环境条件的信息判断所述导管或所述间隔空间的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 生于 设备 废气 等离子体 反应器 | ||
【主权项】：
一种等离子体反应器，其设置于制程腔室与真空泵之间分解从制程腔室排出的废气，包括：导管，其供所述废气流动；等离子体生成部件，其设置于所述导管引起等离子体放电以分解所述废气；壳体，其环绕所述导管，且与所述导管的外周面之间形成有间隔空间；感测部件，其感测所述导管或所述间隔空间的环境条件；以及控制部，其根据从所述感测部件接收的所述环境条件的信息判断所述导管或所述间隔空间的状态。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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