[发明专利]用于半导体腔室部件的辐射率可控涂层有效
| 申请号： | 201480078147.0 | 申请日： | 2014-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN106460195B | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | M·纳伊姆;D·哈梅里克 | 申请（专利权）人： | FM工业公司 |
| 主分类号： | C23C28/04 | 分类号： | C23C28/04;C23C4/02;C23C4/11;C23C4/04 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 汤国华 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于半导体处理室的部件，该部件包括基片和设置在基片表面上的涂层，其中，所述涂层至少包括第一涂层，该第一涂层具有大于0.98至1的热辐射率、具有抗等离子体性、在其整个厚度方向上具有范围在35‑40的色值L。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 部件 辐射 可控 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种涂层，其包含至少第一涂层，该第一涂层包含非化学计量的氧化物组合物，该氧化物组合物包含氧化钇、氧化铪、氧化钇全稳定的氧化锆及它们的混合物中的至少一种，所述第一涂层具有在大于0.98和1之间范围内的热辐射率、具有抗等离子体性、以及在其整个厚度方向上具有范围在35‑45的色值L。
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