[发明专利]散热结构及其合成方法在审
申请号: | 201480078350.8 | 申请日: | 2014-05-30 |
公开(公告)号: | CN106463483A | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 努日纳;野田优;二瓶瑞久 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司;早稻田大学 |
主分类号: | H01L23/34 | 分类号: | H01L23/34;G06F1/20;D01F9/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 由本发明提供散热结构及其合成方法。所述方法包括:提供金属箔片(210);在所述金属箔片(210)的第一表面(212)上形成沉积衬底(220),其中所述沉积衬底(220)包括安置于所述金属箔片(210)上的阻挡层(220)及安置于所述阻挡层(220)上的催化剂层(224),以使得防止所述催化剂层(224)中的催化剂扩散到所述金属箔片(210)中;及在形成于所述第一表面(212)上的所述沉积衬底(220)上合成碳纳米管阵列(132)。由本发明提供的方法可增加散热结构中的CNT的密度。 | ||
搜索关键词: | 散热 结构 及其 合成 方法 | ||
【主权项】:
一种用于合成散热结构的方法,其包括:提供金属箔片;在所述金属箔片的第一表面上形成沉积衬底,其中所述沉积衬底包括安置于所述金属箔片上的阻挡层及安置于所述阻挡层上的催化剂层,以使得防止所述催化剂层中的催化剂扩散到所述金属箔片中;及在形成于所述第一表面上的所述沉积衬底上合成碳纳米管阵列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司;早稻田大学,未经华为技术有限公司;早稻田大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480078350.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。