[发明专利]用于成像模式的探测器阵列在审
| 申请号： | 201480078631.3 | 申请日： | 2014-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN106255900A | 公开（公告）日： | 2016-12-21 |
| 发明（设计）人： | 谢尔盖·西马诺夫斯基;A·利特温;丹尼尔·阿卑宁 | 申请（专利权）人： | 模拟技术公司 |
| 主分类号： | G01T1/20 | 分类号： | G01T1/20;G01T1/24;G01T1/29 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 | 代理人： | 徐川;姚开丽 |
| 地址： | 美国马萨*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种如在辐射成像模式中使用的探测器阵列。该探测器阵列包括具有第一闪烁体(402)的第一像素(302a)。第一闪烁体具有第一探测表面(408)和第一光发射表面(412)。第一探测表面沿第一探测表面平面延伸，并且第一光发射表面沿第一光发射表面平面延伸。探测器阵列包括具有第二闪烁体(420)的第二像素(302b)。第二闪烁体具有第二探测表面(426)和第二光发射表面(430)。第二探测表面沿第二探测表面平面延伸，并且第二光发射表面沿第二光发射表面平面延伸。其中，第一探测表面平面与第二探测表面平面不共面，并且/或者第一光发射表面平面与第二光发射表面平面不共面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 模式 探测器 阵列 | ||
【主权项】：
一种配置为探测辐射光子的探测器阵列，所述探测器阵列包括：第一像素，其包括：配置为将第一辐射光子转换成第一光能的第一闪烁体，所述第一闪烁体包括第一探测表面和第一光发射表面，所述第一辐射光子通过所述第一探测表面进入所述第一闪烁体，所述第一光能通过所述第一光发射表面离开所述第一闪烁体，所述第一探测表面沿第一探测表面平面延伸并且所述第一光发射表面沿第一光发射表面平面延伸；以及第二像素，其包括：配置为将第二辐射光子转换成第二光能的第二闪烁体，所述第二闪烁体包括第二探测表面和第二光发射表面，所述第二辐射光子通过所述第二探测表面进入所述第二闪烁体，所述第二光能通过所述第二光发射表面离开所述第二闪烁体，所述第二探测表面沿第二探测表面平面延伸并且所述第二光发射表面沿第二光发射表面平面延伸；其中，所述第一探测表面平面与所述第二探测表面平面不共面；并且/或者所述第一光发射表面平面与所述第二光发射表面平面不共面。
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