[发明专利]电磁波屏蔽用金属箔、电磁波屏蔽材料及屏蔽电缆有效

专利信息
申请号: 201480079441.3 申请日: 2014-05-30
公开(公告)号: CN106460219B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 田中幸一郎 申请(专利权)人: JX金属株式会社
主分类号: C25D7/06 分类号: C25D7/06;C23C28/02;C23C30/00;C25D5/12;C25D5/50;H05K9/00
代理公司: 72001 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 童春媛;杨思捷<国际申请>=PCT/JP
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的课题是提供即使暴露在高温环境中,耐腐蚀性也难以降低的电磁波屏蔽用金属箔、电磁波屏蔽材料及屏蔽电缆。解决手段为电磁波屏蔽用金属箔10,其中,在由金属箔1构成的基材的一面或两面形成由Ni构成的基底层2,在该基底层的表面形成Sn‑Ni合金层3,Sn‑Ni合金层含有20~80质量%的Sn,在将Sn的总附着量记为TSn[μg/dm2],将Sn‑Ni合金中Sn的比例记为ASn[质量%],将Ni的总附着量记为TNi[μg/dm2],将Sn‑Ni合金中Ni的比例记为ANi[质量%]时,TSn:500~91000μg/dm2,TNi:2200~236000μg/dm2,170000≥{TNi‑TSn×(ANi/ASn)}≥1700。
搜索关键词: 电磁波 屏蔽 金属 材料 电缆
【主权项】:
1.电磁波屏蔽用金属箔,其中,在由金属箔构成的基材的一面或两面形成由Ni构成的基底层,在所述基底层的表面形成Sn-Ni合金层,相对于Sn-Ni,所述Sn-Ni合金层含有2质量%以下的所述基材的构成元素,/n在所述Sn-Ni合金层的表面不存在纯Sn层,/n所述Sn-Ni合金层含有20~80质量%的Sn,/n在将Sn的总附着量记为TSn,μg/dm2,将Sn-Ni合金中Sn的比例记为ASn,质量%,将Ni的总附着量记为TNi,μg/dm2,将Sn-Ni合金中Ni的比例记为ANi,质量%时,TSn:500~91000μg/dm2,TNi:2200~236000μg/dm2,170000≥{TNi-TSn×(ANi/ASn)}≥1700。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JX金属株式会社,未经JX金属株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480079441.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top