[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备

摘要

提供电子照相感光构件，其可以提供其中抑制了黑点和起雾并且能够输出抑制由于电荷产生层的涂布不均匀性导致的浓度不均匀的图像。所述电子照相感光构件的电荷产生层含有镓酞菁晶体、含氮杂环化合物和由式(1)表示的酰胺化合物。所述含氮杂环化合物的杂环中的氮原子具有取代基。

主权项

1.一种电子照相感光构件，其包含支承体、在所述支承体上形成的电荷产生层和在所述电荷产生层上形成的电荷输送层，其特征在于，所述电荷产生层包含镓酞菁晶体，含氮杂环化合物，和由下式(1)表示的酰胺化合物，[化学式1]在式(1)中，R¹¹表示甲基或丙基，所述含氮杂环化合物的杂环中的氮原子具有取代基，所述具有取代基的氮原子的取代基为取代或未取代的酰基，‑(C＝O)‑O‑R¹，取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中所述取代的酰基的取代基为以下(i)中所述的基团；R¹表示以下(ii)中所述的基团：(i)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(i)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；(ii)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(ii)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基，其中所述含氮杂环化合物选自由下式(2)、(3)、(4)、(6)和(7)表示的化合物组成的组，[化学式2]在式(2)中，R²¹表示取代或未取代的酰基，‑(C＝O)‑O‑R²，取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基；所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；所述取代的酰基的取代基为以下(i)中所述的基团，R²表示以下(ii)中所述的基团：(i)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(i)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；(ii)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(ii)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；[化学式3]式(3)中，R³¹和R³²各自独立地表示取代或未取代的酰基，‑(C＝O)‑O‑R³，取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基；所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基，所述取代的酰基的取代基为以下(i)中所述的基团，R³表示以下(ii)中所述的基团：(i)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(i)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；(ii)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(ii)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；[化学式4]式(4)中，R⁴¹表示取代或未取代的酰基，‑(C＝O)‑O‑R⁴，取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基；所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基，所述取代的酰基的取代基为以下(i)中所述的基团，R⁴表示以下(ii)中所述的基团：(i)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(i)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；(ii)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(ii)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；[化学式6]式(6)中，R⁶¹表示取代或未取代的酰基，‑(C＝O)‑O‑R⁶，取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基；所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基，所述取代的酰基的取代基为以下(i)中所述的基团，R⁶表示以下(ii)中所述的基团：(i)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(i)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；(ii)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(ii)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；[化学式7]式(7)中，R⁷¹表示取代或未取代的酰基，‑(C＝O)‑O‑R⁷，取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基；所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基，所述取代的酰基的取代基为以下(i)中所述的基团，R⁷表示以下(ii)中所述的基团：(i)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(i)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基；(ii)取代或未取代的烷基，取代或未取代的烯基，取代或未取代的芳基，或者取代或未取代的杂环基，其中，在该(ii)中，所述取代的烷基的取代基、所述取代的烯基的取代基、所述取代的芳基的取代基和所述取代的杂环基的取代基各自为卤素原子、氰基、硝基、羟基、甲酰基、烷基、烯基、烷氧基或芳基。