[发明专利]具备多个蒸发源的薄膜沉积装置

摘要

本发明涉及一种薄膜沉积装置，其包括：沉积腔室，在内部支撑有基板；多个坩埚，用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；多个分配管，与所述坩埚分别结合并被配置成一列以通过多个喷嘴喷射经汽化的沉积材料；间隔壁，被设置于所述分配管之间并限定经汽化的沉积材料的喷射范围以实现沉积到所述基板上的薄膜的均匀度；分配管加热器，被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；和上部板，具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部，所述薄膜沉积装置能够通过缩减坩埚的高度来降低腔室的高度，并且能够使对基板的左/右沉积彼此独立而进行对称或非对称沉积。

主权项

1.一种薄膜沉积装置，包括：沉积腔室，在其内部支撑有基板；多个坩埚，其用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；多个分配管，其与所述坩埚分别结合并被配置成一列以通过多个喷嘴喷射经汽化的沉积材料；间隔壁，其被设置于所述分配管之间并限定经汽化的沉积材料的喷射范围；分配管加热器，其被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，其用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；以及上部板，其具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部，其中，所述间隔壁在所述分配管的长度方向上位于所述分配管之间且从所述上部板朝向远离所述分配管的方向延伸，其中，所述分配管加热器为分别具有字形的剖面形状的两个护套加热器，以便加热所述分配管的侧面及底面，且所述分配管加热器分别被设置于所述分配管的两侧，其中，在所述沉积腔室的内部平行地设置有多个所述分配管，其中，被设置在所述沉积腔室的中央的中央分配管的喷嘴形成为沿着所述中央分配管的轴向且向上垂直于所述中央分配管的轴向而开口，分别被设置在所述中央分配管的两侧的周边分配管的喷嘴形成为沿与每个周边分配管的轴向间隔开的切线方向向上开口以定位成与在所述沉积腔室的中央处的所述中央分配管的喷嘴邻近。