[发明专利]电阻式随机存取存储器单元中的氧化物存储器元件的稀土金属与金属氧化物电极接合有效

专利信息
申请号: 201480081407.X 申请日: 2014-09-25
公开(公告)号: CN106575655B 公开(公告)日: 2022-08-09
发明(设计)人: P·马吉;E·V·卡尔波夫;N·慕克吉;R·皮拉里塞泰;U·沙阿;B·S·多伊尔;R·S·周 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L27/1157
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 林金朝;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 薄膜电阻式存储器材料堆叠体包括在第一电极与薄膜存储器材料的界面处的高功函数金属氧化物、以及在第二电极与薄膜存储器材料的界面处的低功函数稀土金属中的至少一种。针对高导通/关断电流比,高功函数金属氧化物相对于存储器材料提供良好的肖特基势垒高度。金属氧化物与开关氧化物的相容性降低了氧/空穴的循环损失,以改善存储器器件的耐久性。低功函数稀土金属提供高氧溶解度以增强在沉积状态下在存储器材料内的空穴产生,以用于在提供与电阻式存储器材料的欧姆接触的同时实现低形成电压要求。
搜索关键词: 电阻 随机存取存储器 单元 中的 氧化物 存储器 元件 稀土金属 金属 电极 接合
【主权项】:
一种电阻式薄膜存储器堆叠体,包括:衬底;第一电极材料和第二电极材料,所述第一电极材料和所述第二电极材料设置在所述衬底之上;薄膜存储器材料,所述薄膜存储器材料设置在所述第一电极材料与所述第二电极材料之间,所述薄膜存储器材料在跨所述第一电极和所述第二电极施加的置位/复位电压下经历在低电阻状态与高电阻状态之间的非易失性转变;以及以下材料中的至少一种:设置在所述存储器材料与所述第一电极材料之间的包括具有低于4.5eV的功函数的稀土金属的覆盖材料,或设置在所述存储器材料与所述第二电极之间的包括具有高于4.8eV的功函数的金属氧化物的功函数电极材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480081407.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top