[发明专利]表面形状的测量方法以及测量装置有效

专利信息
申请号: 201480081978.3 申请日: 2014-07-30
公开(公告)号: CN106716056B 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: Y·拉克拉斯 申请(专利权)人: 瓦伊系统有限公司
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张丽
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种在通过蒸镀法形成半导体层时,通过测量半导体层的表面的形状,能够进行上述表面的形状的矫正等的表面形状的测量方法以及测量装置。通过可动式的反射镜反射单一的激光,生成分离为实质上3条的激光入射光(Ld1、Ld2、Ld3),向在腔室(2)内所形成的半导体层(7)的表面的入射点(P1、P2、P3)照射激光入射光(Ld1、Ld2、Ld3)。通过利用光位置传感器检测来自各个入射点(P1、(P2、P3)的激光反射光(Lv1、Lv2、Lv3),测量包括入射点(P1、P2、P3)的膜的表面形状。
搜索关键词: 表面 形状 测量方法 以及 测量 装置
【主权项】:
1.一种表面形状的测量方法,测量在腔室内在基板的表面生长的膜的表面形状,其特征在于,/n使反射镜的角度连续性地或者间歇性地三维地变化,通过所述反射镜,将单一的激光一边改变其入射方向一边提供给膜的表面或者所述基板的表面的预定点的周围的三个照射点,该三个照射点是在所述膜的表面或者所述基板的表面上形成的、在其内侧包括所述预定点的三角形的顶点,/n通过光位置传感器检测激光的反射方向,/n根据所述反射方向,计算所述三个照射点的各个照射点处的所述表面的倾斜以及包括所述预定点以及所述三个照射点的区域内的所述表面的翘曲。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦伊系统有限公司,未经瓦伊系统有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480081978.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top