[发明专利]包括局部丝状沟道的电阻性存储器单元、包括其的器件、以及制造其的方法有效
申请号: | 201480083490.4 | 申请日: | 2014-12-18 |
公开(公告)号: | CN107155371B | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | P·马吉;R·皮拉里塞泰;N·慕克吉;U·沙阿;E·V·卡尔波夫;B·S·多伊尔;R·S·周 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L45/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈松涛;王英 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述了电阻性存储器单元。在一些实施例中,电阻性存储器单元包括切换层,该切换层具有内部区域,一个或多个丝状体形成在内部区域中。在一些实例中,丝状体仅形成在切换层的内部区域内。还描述了制造这样的电阻性存储器单元和器件的方法。 | ||
搜索关键词: | 包括 局部 丝状 沟道 电阻 存储器 单元 器件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种形成电阻性存储器单元的方法,包括:形成第一电极;在所述第一电极上形成具有总宽度W的切换层前体,所述切换层前体包括第一侧和第二侧;在所述切换层前体上形成第二电极;以及对所述切换层前体进行处理以形成内部区域以及与所述内部区域相邻的第一外部区域和第二外部区域,其中,在所述处理之后:所述内部区域包括亚化学计量氧化物,所述亚化学计量氧化物包括多个氧空位;所述内部区域具有小于所述切换层的所述总宽度W的宽度W1;并且所述第一外部区域和所述第二外部区域均包括大体上化学计量的氧化物;执行形成过程以形成切换层,所述切换层包括至少一个丝状体,其中,所述至少一个丝状体仅存在于所述内部区域的所述宽度W1内。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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