[发明专利]粒子射线治疗设施的设计辅助方法、粒子射线治疗设施的制造方法及粒子射线治疗设施在审

专利信息
申请号: 201480083544.7 申请日: 2014-11-21
公开(公告)号: CN106999724A 公开(公告)日: 2017-08-01
发明(设计)人: 岩田高明 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10;E04H3/08;G06F17/50
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 万捷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于提供一种对多个治疗室的布局进行了研究的粒子射线治疗设施的设计辅助方法、粒子射线治疗设施的制造方法。本发明的粒子射线治疗设施的设计辅助方法包括如下步骤计算配置于与配置对象空间相对应的模型空间中的多个治疗室模型内最接近地配置的两个治疗室模型之间的凹区域即局部凹区域的体积或局部凹区域的投影面积的局部凹区域计算步骤;将由局部凹区域计算步骤计算得到的局部凹区域的体积或投影面积显示于设计辅助装置的显示装置的凹区域计算结果显示步骤;以及在凹区域计算结果显示步骤后没有作业结束指示的情况下,根据治疗室模型的移动指示在模型空间中移动治疗室模型的治疗室模型移动步骤,反复执行局部凹区域计算步骤、凹区域计算结果显示步骤、治疗室模型移动步骤,直到具有作业结束指示为止。
搜索关键词: 粒子 射线 治疗 设施 设计 辅助 方法 制造
【主权项】:
一种粒子射线治疗设施的设计辅助方法,该粒子射线治疗设施的设计辅助方法利用设计辅助装置对将设置有旋转机架的多个治疗室配置于预先决定的配置对象空间的配置设计进行辅助,该治疗室从任意的方向对照射对象照射带电粒子射束,该粒子射线治疗设施的设计辅助方法的特征在于,包括如下步骤:治疗室模型生成步骤,该治疗室模型生成步骤中生成所述治疗室的三维模型即治疗室模型;治疗室模型配置步骤,该治疗室模型配置步骤中在与所述配置对象空间相对应的模型空间中将多个所述治疗室模型配置于初始位置;局部凹区域计算步骤,该局部凹区域计算步骤中计算多个所述治疗室模型内最接近地配置的两个所述治疗室模型之间的凹区域即局部凹区域的体积或将所述局部凹区域二维地投影到地板方向时的投影面积;凹区域计算结果显示步骤,该凹区域计算结果显示步骤中将由所述局部凹区域计算步骤计算得到的所述局部凹区域的体积或所述投影面积显示于所述设计辅助装置的显示装置;以及治疗室模型移动步骤,该治疗室模型移动步骤中在所述凹区域计算结果显示步骤后没有作业结束指示的情况下,根据所述治疗室模型的移动指示,在所述模型空间中移动所述治疗室模型,反复执行所述局部凹区域计算步骤、所述凹区域计算结果显示步骤、所述治疗室模型移动步骤,直到具有所述作业结束指示为止,所述局部凹区域是由将最接近地配置的两个所述治疗室模型的相对的外周相连结而得的线上的点的集合构成的区域,或者是在最接近地配置的两个所述治疗室模型之间配置有屏蔽壁的情况下,由将该情况下的两个所述治疗室模型的相对的外周相连结而得的线上的点中除去所述屏蔽壁以外的对象点的集合构成的区域。
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