[发明专利]材料沉积系统和用于在材料沉积系统中沉积材料的方法有效
申请号: | 201480083861.9 | 申请日: | 2014-12-05 |
公开(公告)号: | CN107002223B | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;斯蒂芬·班格特;奥利弗·海默尔;迪特尔·哈斯 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/12 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 描述一种用于将材料沉积在基板(121)上的真空沉积系统(300;400;500)。真空沉积系统(300;400;500)包括:真空腔室(110),真空腔室(110)具有腔室容积;以及材料沉积布置(100),材料沉积布置(100)用于提供将沉积的材料,材料沉积布置(100)在沉积期间位于真空腔室(110)中。真空沉积系统进一步包括基板支撑件(126;600),基板支撑件(126;600)用于在真空腔室(110)中支撑基板(121),基板具有基板尺寸。腔室容积对基板尺寸比是15m或更少。另外,描述一种用于在真空沉积系统(300;400;500)中将材料沉积在基板(121)上的方法。 | ||
搜索关键词: | 材料沉积 基板 真空沉积系统 真空腔室 材料沉积系统 基板支撑件 腔室 沉积 沉积材料 方法描述 尺寸比 对基板 中支撑 | ||
【主权项】:
1.一种用于将材料沉积在基板(121)上的真空沉积系统(300;400;500),所述真空沉积系统包括:真空腔室(110),具有腔室容积;材料沉积布置(100),用于提供将沉积的材料并且在沉积期间位于所述真空腔室(110)中,所述材料沉积布置(100)包括两个或更多个坩埚(104)和与所述坩埚(104)流体连通的线性分配管道(106a,106b,106c);以及两个基板支撑件(126;600),用于在所述真空腔室(110)中支撑所述基板(121),所述基板具有由两个或更多个基板的尺寸形成的基板尺寸;其中所述腔室容积对所述基板尺寸比是15m或更少,并且其中所述基板支撑件(126;600)布置在距所述材料沉积布置(100)的出口约250mm或更少的距离处,并且不同分配管道(106a,106b,106c)的喷嘴(712)之间的距离少于50mm。
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