[其他]用于在基板上沉积材料的沉积装置有效
| 申请号： | 201490001442.1 | 申请日： | 2014-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN206624912U | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | T·W·齐尔鲍尔;A·赫尔米希;R·欣特舒斯特;U·慕尔菲德;B·斯托克;H·G·沃尔夫;M·班德尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/44;C23C16/54 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于在基板上沉积材料的沉积装置(300)。沉积装置(300)包括第一处理腔室(310)和第二处理腔室(320)；位于第一处理腔室(310)内的至少一个第一沉积源(311)和位于第二处理腔室(320)内的至少一个第二沉积源(321)；和至少一个第一遮蔽设备(350)。此至少一个第一遮蔽设备(350)配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中此至少一个第一遮蔽设备(350)配置为当至少一个第一遮蔽设备(350)在第一位置时遮蔽至少一个第一沉积源(311)，且其中至少一个第一遮蔽设备(350)配置为在第一处理腔室(310)和第二处理腔室(320)之间为可移动的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基板上 沉积 材料 装置 | ||
【主权项】：
一种用于在基板上沉积材料的沉积装置，包括：第一处理腔室和第二处理腔室；位于所述第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和位于所述第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；以及至少一个第一遮蔽设备；其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为当所述至少一个第一遮蔽设备在所述第一位置时遮蔽所述至少一个第一沉积源，且其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为在所述第一处理腔室和所述第二处理腔室之间为可移动的。
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