[其他]用于在真空处理腔室中支撑基板的载体和用于在基板上沉积层的设备有效
| 申请号： | 201490001478.X | 申请日： | 2014-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN206927946U | 公开（公告）日： | 2018-01-26 |
| 发明（设计）人： | R·林德伯格;W·克莱恩;S·劳;T·伯格 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/56;C23C16/458;C23C16/54;G03F7/20;H01J37/32;H01L21/67;H01L21/673;H01L21/677;H01L21/687;C03B35/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了用于在真空处理腔室中支撑基板的载体和用于在基板上沉积层的设备。所述载体(100)包括载体主体(110)，所述载体主体被配置成用于沿所述线性传送路径(133)来进行传送；以及至少一个基板支撑布置(120)，所述至少一个基板支撑布置(120)提供在所述载体主体(110)处并配置成用于支撑所述基板(101)，其中所述基板支撑布置(120)被配置成限定所述基板(101)的至少一个弯曲轴(130)，其中所述至少一个弯曲轴(130)具有基本上竖直的取向。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 处理 腔室中 支撑 载体 基板上 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种用于在真空处理腔室中支撑基板的载体，所述真空处理腔室具有线性传送路径，所述载体包括：载体主体，所述载体主体被配置成用于沿所述线性传送路径来进行传送；以及至少一个基板支撑布置，所述至少一个基板支撑布置提供在所述载体主体处并配置成用于支撑所述基板，其中所述基板支撑布置被配置成限定所述基板的至少一个弯曲轴，其中所述至少一个弯曲轴具有基本上竖直的取向。
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