[发明专利]一种多重曝光方法有效
| 申请号： | 201510000339.6 | 申请日： | 2015-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN105824198B | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 张家锦 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种多重曝光方法，其特征在于，多重曝光工艺层包含n组图形并进行n次曝光，每次曝光前先进行图形对准，所述图形中包含对准标记，其中，第1次曝光的图形对准前层工艺层；第2次曝光的图形对准第1层图形的对准标记；之后第n次曝光的图形对准第1至n‑1次曝光所形成的共（n‑1）组对准标记，其中n>2，n是自然数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多重 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多重曝光方法，其特征在于，多重曝光工艺层包含n组图形并进行n次曝光，各组图形拼合在一层工艺层，每次曝光前先进行图形对准，所述图形中包含对准标记，其中，第1次曝光的图形对准前层工艺层；第2次曝光的图形对准第1组图形的对准标记；之后第n次曝光的图形对准第1至n‑1次曝光所形成的共(n‑1)组对准标记，其中n>2，n是自然数，通过每次图形对准获取各组图形的对准偏差结果Al1、Al2、…、Al(n)，建立各组图形间的套刻关系，从而在第n次图形对准时进行对准补偿；所述对准补偿具体为：通过第1次图形对准获得对准偏差结果Al1；通过第2次图形对准获得对准偏差结果Al2；之后第n次图形对准中的对准补偿值为((n‑2)*Al(n‑1)‑Al(n‑2)······Al2‑Al1)/(n‑1)。
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