[发明专利]一种钼基体上金属镀层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510006640.8 申请日: 2015-01-07
公开(公告)号: CN104593842B 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: 万传云;张甜甜;何云庆 申请(专利权)人: 上海应用技术学院;江苏澳光电子有限公司
主分类号: C25D5/24 分类号: C25D5/24;C25F3/02
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司31001 代理人: 吴宝根,马文峰
地址: 200235 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种钼基体上金属镀层的制备方法,首先对钼基体表面除油,然后以除油后的钼基体为阳极,铅板为阴极,在阳极电解液中控制电流密度为10‑22A/dm2进行电解;然后再将阳极电解后的钼基体作为阴极,铅板为阳极,在阴极电解液中控制电流密度为10‑22A/dm2进行阴极电解以去除钼基体表面的氧化膜;最后将表面的氧化膜清除后的钼基体作为阴极,采用铅板或与待镀金属层材质相同的金属板为阳极,在电镀液中控制电流密度为1‑22A/dm2进行电镀5‑40min,即在钼基体表面形成金属镀层。本发明的制备方法所得的金属镀层与钼基体之间的结合力强。
搜索关键词: 一种 基体 金属 镀层 制备 方法
【主权项】:
一种钼基体上金属镀层的制备方法,其特征在于具体包括如下步骤:(1)、钼基体表面的氧化膜的清除①、钼基体表面除油将钼基体置于丙酮或温度为80‑90℃、浓度为110g/L的氢氧化钠水溶液中,超声辅助清洗30min,然后用无水乙醇清洗;②、阳极电解以除油后的钼基体为阳极,铅板为阴极,在阳极电解液中控制电流密度为10‑22A/dm2进行电解1‑2min,然后用去离子水清洗干净;所述阳极电解液,按每升计算,其组成及含量如下:硫酸                0‑300g铬酐                0‑300g余量为水;③、阴极电解将阳极电解后的钼基体作为阴极,铅板为阳极,在阴极电解液中控制电流密度为10‑22A/dm2进行阴极电解2‑5min,电解完后用去离子水清洗,即完成了钼基体表面的氧化膜的清除;所述的阴极电解液,按每升计算,其组成及含量如下:硫酸                30‑100g余量为水;(2)、电镀将步骤(1)中表面氧化膜清除后的钼基体作为阴极,采用铅板或与待镀金属层材质相同的金属板为阳极,在电镀液中控制电流密度为1‑22A/dm2进行电镀5‑40min,即在钼基体表面形成金属镀层;所述的电镀液中,含有待镀金属。
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