[发明专利]用于碳化硅生长的高温装置及方法有效

专利信息
申请号: 201510008972.X 申请日: 2015-01-08
公开(公告)号: CN104514034B 公开(公告)日: 2017-10-27
发明(设计)人: 刘兴昉;刘斌;闫果果;刘胜北;田丽欣;申占伟;王雷;赵万顺;张峰;孙国胜;曾一平 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B35/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明一种用于碳化硅生长的高温装置及方法,该装置包括一外壳,为筒形结构;一生长室,为筒形结构,其位于外壳的中间;一出气管,其固定在生长室的顶部;一温度探测器,其固定在生长室的顶部;一生长源进气管,其位于生长室内的侧壁,且通向生长室的底部;一可旋转载盘,其从上至下通过一轴杆连接至生长室的中间部位;一匀气盘,其固定在生长室的底部;一加热器,其位于生长室的下面,在外壳内,该加热器与生长室之间形成一燃烧室;一保温层,其围绕在生长室的外侧;一排烟管,其一端固定于保温层上与燃烧室相通,另一端经外壳通往室外。本发明可以避免巨大的电力消耗,又可以提高生产效率、降低能耗。
搜索关键词: 用于 碳化硅 生长 高温 装置 方法
【主权项】:
一种用于碳化硅生长的高温装置,包括:一外壳,为筒形结构;一生长室,为筒形结构,其位于外壳的中间;一出气管,其固定在生长室的顶部;一温度探测器,其固定在生长室的顶部;一生长源进气管,其位于生长室内的侧壁,且通向生长室的底部;一可旋转载盘,其从上至下通过一轴杆连接至生长室的中间部位;一匀气盘,其固定在生长室的底部,其带有原料槽;一加热器,其位于生长室的下面,在外壳内,该加热器与生长室之间形成一燃烧室;一保温层,其围绕在生长室的外侧;一排烟管,其一端固定于保温层上与燃烧室相通,另一端经外壳通往室外;其中,所述可旋转载盘与所述原料槽隔开一距离,,所述加热器由一火焰喷盘、支撑杆和进气管组成。
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