[发明专利]一种褶皱膜温度传感器及其制作方法

摘要

本申请提供一种褶皱膜温度传感器及其制作方法，该褶皱膜温度传感器包括具有凹槽和台阶部的基片；在台阶部2a表面和第一凹槽2上方具有多层膜结构，其中，第一介质层5、第二介质层结构8、第三介质层结构12、以及第一凹槽2围成空腔15；多层膜结构的位于第一凹槽2上方的部分形成为褶皱结构，其具有至少两个凹部和至少一个凸部，并且，褶皱结构还具有释放孔14a；位于释放孔14a外侧的第四凹槽10，并且，第二层热电堆材料结构8通过第四凹槽10与第一层热电堆材料结构6连接。根据本申请，能够增加褶皱膜温度传感器的热偶对和隔热膜的长度，使其热导率降低，提高传感器灵敏度，并且，在其制造工艺中，可以提高工艺稳定性和器件性能。

主权项

一种褶皱膜温度传感器的制作方法，该方法包括：在基片(1)上形成第一凹槽(2)，并且，所述基片在所述第一凹槽(2)周边的部分形成为台阶部(2a)；形成至少覆盖所述第一凹槽(2)底部的牺牲层褶皱结构(4)，所述牺牲层褶皱结构(4)具有至少两个凹部(4a)和至少一个凸部(4b)；在所述台阶部(2a)的表面以及所述牺牲层褶皱结构(4)的表面形成第一层介质层(5)；形成第一层热电堆材料结构(6)以覆盖所述第一层介质层(5)的表面，并且，所述第一层热电堆材料结构(6)具有使所述第一层介质层(5)的上表面的一部分露出的第二凹槽(7)；形成第二层介质层结构(8)以覆盖所述第一层热电堆材料结构(6)以及所述第二凹槽(7)，并且，所述第二层介质层结构(8)具有使所述第一层热电堆材料结构(6)部分露出的第三凹槽(9)和第四凹槽(10)，所述第三凹槽(9)位于所述台阶部(2a)上方，所述第四凹槽(10)位于所述第二凹槽(7)的外侧；形成第二层热电堆材料结构(11)以覆盖所述第二层介质层结构(8)和所述第四凹槽(10)，所述第二层热电堆材料结构(11)通过所述第四凹槽(10)与下方的所述第一层热电堆材料结构(6)连接，所述第二层热电堆材料结构(11)具有对应于所述第二凹槽(7)的第五凹槽(11b)，以露出所述第二凹槽(7)内的所述第二层介质层结构(8)；形成第三层介质层结构(12)以覆盖所述第二层热电堆材料结构(11)和所述第五凹槽(11b)，所述第三层介质层结构(12)具有第六凹槽(13)和第七凹槽(14)，其中，所述第六凹槽(13)位于所述台阶部(2a)上方，且比所述第三凹槽(9)更远离所述第一凹槽(2)，所述第二层热电堆材料结构(11)从所述第六凹槽(13)露出，所述第七凹槽(14)位于所述第二凹槽(7)的上方，且所述第二凹槽(7)内的所述第二层介质层结构(8)的一部分通过所述第七凹槽(14)露出；通过所述第七凹槽(14)刻蚀所述第二层介质层结构(8)和所述第一层介质层(5)，形成释放孔(14a)；经由所述释放孔(14a)去除所述牺牲层褶皱结构(4)，形成空腔(15)。