[发明专利]一种纳米晶ZrB2超硬涂层及制备方法有效
申请号: | 201510010216.0 | 申请日: | 2015-01-09 |
公开(公告)号: | CN105463391B | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
发明(设计)人: | 王铁钢;刘艳梅;范其香;蔡玉俊;戚厚军;阎兵;李彤;韩翠红 | 申请(专利权)人: | 天津职业技术师范大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06 |
代理公司: | 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙)12214 | 代理人: | 王海滨 |
地址: | 300222 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及硬质涂层及其制备技术,具体地说是一种超硬ZrB2涂层及其制备工艺,采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术在金属或合金基体上沉积ZrB2涂层。靶材分别选用金属Zr和化合物ZrB2(纯度均为wt. 99.9%),前者用于基体表面的轰击清洗和沉积金属Zr过渡层,后者用于沉积ZrB2涂层,镀膜过程始终在氩气气氛内进行。本发明涉及的ZrB2涂层制备重复性好,并且容易工业化生产;制备出的ZrB2涂层具有较高的熔点、硬度和弹性模量,良好的耐磨性能,而且组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 zrb sub 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种纳米晶ZrB2超硬涂层的制备工艺,其特征在于:采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术在金属或合金基体上沉积ZrB2涂层;先利用高功率脉冲技术溅射金属Zr靶,对基体表面进行轰击清洗,随后沉积Zr过渡层,再采用脉冲直流技术溅射ZrB2化合物靶材,在氩气气氛内非反应沉积ZrB2涂层。
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