[发明专利]透明导电电极的图案化刻蚀方法和图案化透明导电电极有效
申请号: | 201510013392.X | 申请日: | 2015-01-12 |
公开(公告)号: | CN104575869B | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 朱瑞;吴疆;胡芹;阙星陆;龚旗煌 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙)11360 | 代理人: | 苏爱华 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公布一种透明导电电极的图案化刻蚀方法和图案化透明导电电极,包括步骤:制成待图案化的电极;其上制备图案化的保护层;置于刻蚀液或气体中刻蚀;置于清洗液中清洗去掉刻蚀产物和保护层。用本发明方法对金属纳米线进行网格状图案化,制备成一种网格状图案化的透明导电电极。本发明通过气体或较低浓度的刻蚀液对金属或金属纳米线薄膜实现快速、低成本且安全低毒的化学刻蚀,既可彻底刻蚀,也能无影刻蚀,且安全低毒、刻蚀速度快,在实际应用中效果显著。制成的网格状图案化透明导电电极综合纳米线和纳米网格透明电极的优点,在导电性损失极小的前提下大幅提高透明度,性能良好。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电 电极 图案 刻蚀 方法 | ||
【主权项】:
一种透明导电电极的图案化刻蚀方法,依次包括如下步骤:1.1将金属薄膜、金属网格薄膜或金属纳米线薄膜制备于透明基底之上,制成待图案化的电极;1.2在步骤1.1所述待图案化电极之上制备图案化的保护层,制成待刻蚀的电极;1.3将步骤1.2所述待刻蚀电极置于卤素单质的溶液、气态卤素单质或含氨基和卤素基团的有机物的溶液中刻蚀;令没有被保护层覆盖的金属或金属纳米线不再导电,制成待清洗的电极;步骤1.3所述将待刻蚀电极置于卤素单质的溶液或气态卤素单质中刻蚀为彻底图案化刻蚀方法;所述将待刻蚀电极置于含氨基和卤素基团的有机物的溶液中刻蚀为无影图案化方法;1.4若步骤1.3中使用了卤素单质的溶液或气态卤素单质刻蚀电极,则先将步骤1.3所述待清洗的电极置于有机溶剂中去除保护层,再将其置于含氨基的有机物的溶液中去除刻蚀产物;若步骤1.3中使用了含氨基和卤素基团的有机物的溶液刻蚀电极,则仅将步骤1.3所述待清洗的电极置于有机溶剂中去除保护层;完成图案化刻蚀,制成图案化透明导电电极。
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