[发明专利]一种用于玻璃钝化整流芯片工艺中不含光敏剂的光刻胶组合物及其应用有效
| 申请号： | 201510014204.5 | 申请日： | 2015-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN104656373B | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 卞玉桂 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215124 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于GPRC工艺中不含光敏剂的光刻胶组合物的用途，其中所述光刻胶组合物用于GPRC工艺段中，取消光敏剂，降低生产成本；减少曝光、显影、后烘的工艺段，缩短了生产时间，提高效率，减少化学品对人体的伤害和对环境的污染；同时保持其在氢氟酸和硝酸腐蚀液中的抗蚀性，提高光刻胶层的坚韧性，使得隔空裸露的光刻胶在腐蚀液中不发生弯曲和坍塌，满足生产工艺的要求，市场前景十分良好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 gprc 工艺 中不含 光敏剂 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种用于玻璃钝化整流芯片工艺中不含光敏剂的光刻胶组合物，其特征在于：所述光刻胶的组成及质量百分比为，(A)环化橡胶的二甲苯溶液 25～35％(B)纳米级1，1，1‑三(4‑羟基苯基)乙烷 1～5％。
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