[发明专利]二维位置感测系统及其传感器在审
申请号: | 201510014653.X | 申请日: | 2010-06-16 |
公开(公告)号: | CN104655160A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | A·尤图库里;J·克拉克;斯蒂芬·麦克费德烟 | 申请(专利权)人: | 百安托国际有限公司 |
主分类号: | G01D5/34 | 分类号: | G01D5/34;G01S3/784;G01S5/16;G06F3/042;G06F3/0354 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 武晨燕;迟姗 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 加拿大;CA |
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摘要: | 公开了二维位置感测系统和用于这样的系统中的传感器。所述传感器包含具有传感器元件的线性阵列传感器和孔板。一些实施例包括将辐射引导到传感器元件中的一些上的辐射源。其它实施例包括阻挡辐射到达传感器元件中的一些的辐射阻挡对象。可以从入射在传感器元件上的辐射估计辐射源或辐射阻挡对象的方向或位置。 | ||
搜索关键词: | 二维 位置 系统 及其 传感器 | ||
【主权项】:
一种估计辐射源相对于感测区域的位置的方法,所述方法包括:‑相对于所述感测区域将第一位置传感器定位在第一位置中,其中所述第一位置传感器包括:‑具有多个第一传感器元件的第一线性阵列传感器,所述第一传感器元件面对所述感测区域;‑第一孔板,所述第一孔板定位在所述第一线性阵列传感器和所述感测区域之间以阻挡来自所述感测区域的辐射到达所述第一线性阵列传感器;以及‑第一孔,所述第一孔形成于所述第一孔板中以允许来自所述辐射源的辐射到达所述第一传感器元件中的至少一个;‑相对于所述感测区域将第二位置传感器定位在第二位置中,其中所述第一和第二位置传感器分离一定距离,其中所述第二位置传感器包括:‑具有多个第二传感器元件的第二线性阵列传感器,所述第二传感器元件面对所述感测区域;‑第二孔板,所述第二孔板定位在所述第二线性阵列传感器和所述感测区域之间以阻挡来自所述感测区域的辐射到达所述第二线性阵列传感器;以及‑第二孔,所述第二孔形成于所述第二孔板中以允许来自所述辐射源的辐射到达所述第二传感器元件中的至少一个;‑接收来自所述第一线性阵列传感器的第一辐射强度信号,其中所述第一强度信号包括对应于通过所述第一孔入射在所述第一传感器元件上的辐射的强度值,其中,所述第一辐射强度信号包括超过第一阈值的高强度值的第一范围;‑根据所述第一强度信号、基于所述高强度值的第一范围相对于所述第一位置传感器确定第一线;‑接收来自所述第二线性阵列传感器的第二辐射强度信号,其中所述第二强度信号包括对应于通过所述第二孔入射在所述第二传感器元件上的辐射的强度值,其中,所述第二辐射强度信号包括超过第二阈值的高强度值的第二范围;‑根据所述第二强度信号、根据所述高强度值的第二范围相对于所述第二位置传感器确定第二线;以及‑估计所述辐射源的位置在所述第一和第二线的交叉点。
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