[发明专利]高光高冲击耐磨PC/ABS合金及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510014998.5 申请日: 2015-01-13
公开(公告)号: CN104497539A 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 刘春艳;何晓利 申请(专利权)人: 上海中镭新材料科技有限公司
主分类号: C08L69/00 分类号: C08L69/00;C08L55/02;C08L51/00;C08L83/04;C08K9/04;C08K7/28;C08F287/00;B29C47/92
代理公司: 上海交达专利事务所31201 代理人: 王毓理;王锡麟
地址: 201300上海市浦东新区宣桥*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种高光高冲击耐磨PC/ABS合金及其制备方法,通过将PC、ABS、PBT/PEG‐g‐MSA和硅酮粉经均匀混合后与表面改性HGB一同熔融共混得到。本发明制备得到的PC/ABS合金含有表面改性HGB和硅酮粉、60°光泽(GU)达到80以上、悬臂梁缺口冲击强度达到600J/m以上,具有高光泽、高常温冲击及低温冲击韧性、耐磨特性,减少喷漆二次加工工序,成本低,更具有广泛市场价值。
搜索关键词: 高光高 冲击 耐磨 pc abs 合金 及其 制备 方法
【主权项】:
一种高光高冲击耐磨PC/ABS合金及其制备方法,其特征在于,通过将PC、ABS、PBT/PEG‐g‐MSA和硅酮粉经均匀混合后与表面改性HGB一同熔融共混得到,其中:PBT/PEG‐g‐MSA通过溶液接枝法将MMA、St、AN与PBT/PEG嵌段共聚物接枝共聚得到。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海中镭新材料科技有限公司;,未经上海中镭新材料科技有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510014998.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top