[发明专利]一种清洗膜有机溶剂污染物的方法

摘要

本发明公开了一种清洗膜有机溶剂污染物的方法，所述方法包括溶质污染物的清洗、有机溶剂污染物的清洗、有机溶剂清洗剂的去除、碱性物质的水溶液的去除4个步骤，本发明所述方法具有清洗效果好、清洗时间短的优点。

主权项

一种清洗膜有机溶剂污染物的方法，其特征在于，所述方法按如下步骤进行：(1)溶质污染物的清洗：先用与应用膜生产时所使用的有机溶剂相同的有机溶剂清洗，所述清洗过程为：先排空纳滤膜装置中溶质和有机溶剂的混合物，加入与应用膜生产时所使用的有机溶剂相同的有机溶剂，在0.1～2kg/cm2/min的速率下，纳滤膜装置的过膜压力从低压升至高压，在高压状态维持5～20分钟后，再以0.1～2kg/cm2/min的速率从高压状态降至低压状态，在低压状态维持1～5分钟，以此为一个周期，循环运转10～30分钟；所述低压状态为1～5kg/cm2，高压状态为10～20kg/cm2；(2)有机溶剂污染物的清洗：再用有机溶剂清洗剂清洗，所述清洗过程为：先排空纳滤膜装置中的有机溶剂，加入有机溶剂清洗剂，在0.2～2kg/cm2/min的速率下，纳滤膜装置的过膜压力从低压升至高压，在高压状态维持10～30分钟后，再以0.2～2kg/cm2/min的速率从高压状态降至低压状态，在低压状态维持1～10分钟，以此为一个周期，循环运转10～30分钟，该清洗过程重复1～2次；所述低压状态为1～5kg/cm2，高压状态为15～30kg/cm2；所述有机溶剂清洗剂选自乙醇、甲醇、氯仿、四氯甲烷、去离子水中的一种或两种以上任意比例的混合溶剂；(3)有机溶剂清洗剂的去除：然后用碱性物质的水溶液清洗，所述清洗过程为：先排空纳滤膜装置中的有机溶剂清洗剂，加入碱性物质的水溶液，在0.2～1kg/cm2/min的速率下，纳滤膜装置的过膜压力从低压升至高压，在高压状态维持10～30分钟后，再以0.2～1kg/cm2/min的速率从高压状态降至低压状态，在低压状态维持1～10分钟，以此为一个周期，循环运转5～15分钟，该清洗过程重复1～2次；所述低压状态为1～5kg/cm2，高压状态为5～10kg/cm2；所述碱性物质为NaOH、Na2CO3、Na3PO4中的一种或两种以上的混合物；(4)碱性物质的水溶液的去除：最后用去离子水清洗，所述清洗过程为：先排空纳滤膜装置中的碱性物质的水溶液，加入去离子水，在0.1～0.5kg/cm2/min的速率下，纳滤膜装置的过膜压力从低压升至高压，在高压状态维持10～30分钟后，再以0.1～0.5kg/cm2/min的速率从高压状态降至低压状态，在低压状态维持1～10分钟，以此为一个周期，循环运转10～30分钟，该清洗过程重复1～2次；所述低压状态为1～5kg/cm2，高压状态为5～10kg/cm2。