[发明专利]一种SRAM单元、半导体器件和电子装置在审

专利信息
申请号: 201510018694.6 申请日: 2015-01-14
公开(公告)号: CN105845679A 公开(公告)日: 2016-08-10
发明(设计)人: 张弓 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11;H01L29/08;H01L29/78
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 董巍;高伟
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种SRAM单元、半导体器件和电子装置,涉及半导体技术领域。该SRAM单元包括第一PMOS晶体管、第二PMOS晶体管、第三PMOS晶体管及第一NMOS晶体管、第二NMOS晶体管、第三NMOS晶体管、第四NMOS晶体管和第五NMOS晶体管;其中,第三PMOS晶体管的源极与第二PMOS晶体管的源极相连并连接至电源电压Vdd,漏极与第一PMOS晶体管的源极相连,栅极与第三NMOS晶体管的栅极相连并连接至字线;第五NMOS晶体管的源极与第二NMOS晶体管的源极相连并连接至电源电压Vss,漏极与第一NMOS晶体管的源极相连,栅极与另一字线相连。该SRAM单元由于包括第三PMOS晶体管和第五NMOS晶体管,因此具有更好的写能力。该半导体器件包括上述SRAM单元,同样具有上述优点。该电子装置包括上述半导体器件,同样具有上述优点。
搜索关键词: 一种 sram 单元 半导体器件 电子 装置
【主权项】:
一种SRAM单元,其特征在于,包括第一PMOS晶体管(P1)、第二PMOS晶体管(P2)、第三PMOS晶体管(P3)以及第一NMOS晶体管(N1)、第二NMOS晶体管(N2)、第三NMOS晶体管(N3)、第四NMOS晶体管(N4)和第五NMOS晶体管(N5),其中,所述第一PMOS晶体管与所述第一NMOS晶体管构成第一CMOS晶体管(101),所述第二PMOS晶体管与所述第二NMOS晶体管构成第二CMOS晶体管(102),其中所述第一CMOS晶体管的输入端与所述第二CMOS晶体管的输出端相连,所述第一CMOS晶体管的输出端与所述第二CMOS晶体管的输入端相连;所述第三PMOS晶体管的源极与所述第二PMOS晶体管的源极相连并连接至电源电压Vdd,所述第三PMOS晶体管的漏极与所述第一PMOS晶体管的源极相连,所述第三PMOS晶体管的栅极与所述第三NMOS晶体管的栅极相连并连接至字线;所述第三NMOS晶体管的源极与位线相连,所述第三NMOS晶体管的漏极与所述第一PMOS晶体管的漏极相连;所述第四NMOS晶体管的源极与所述第二PMOS晶体管的漏极相连,所述第四NMOS晶体管的栅极与字线相连,所述第四NMOS晶体管的漏极与另一位线相连;所述第五NMOS晶体管的源极与所述第二NMOS晶体管的源极相连并连接至电源电压Vss,所述第五NMOS晶体管的漏极与所述第一NMOS晶体管的源极相连,所述第五NMOS晶体管的栅极与另一字线相连。
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