[发明专利]一种集成电路版图图形的修改方法有效
申请号: | 201510019344.1 | 申请日: | 2015-01-15 |
公开(公告)号: | CN105844682B | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | 刘磊;谢光益;李起宏 | 申请(专利权)人: | 北京华大九天软件有限公司 |
主分类号: | G06T11/80 | 分类号: | G06T11/80;G06F17/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100102 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种集成电路版图图形的修改方法。本发明会根据鼠标光标在原始图形上的投影产生吸附点,吸附点提示了原始图形与新图形的边界交点;本发明还采用快捷键,自动补全鼠标光标与吸附点间的线段,快速结束操作。这种图形形状修改方法,能大大提高命令执行速度,减少大量的版图放大、缩小及点击操作,提高绘制版图的效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 集成电路 版图 图形 修改 方法 | ||
【主权项】:
1.一种集成电路版图图形状修改过程中的自动吸附边界的方法,包括以下步骤:(1)集成电路版图图形修改中,自动吸附起始点;(2)集成电路版图图形修改中,随着鼠标移动,不断更新吸附点,提示新图形与原始图形的相交点;(3)集成电路版图图形修改中,通过快捷键,自动创建由鼠标光标至吸附点间的线段,确定图形的最终边界;其中,所述步骤(1)中自动吸附起始点是指自动创建由鼠标到目标图形的卡通,该卡通由鼠标出发,自动吸附至鼠标光标在原始图形上的投影。
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