[发明专利]大尺寸KDP晶体表面磁-射流清洗装置及清洗工艺

摘要

本发明涉及一种大尺寸KDP晶体表面磁-射流清洗装置及清洗工艺。将与抛光液相溶的低分子化学溶剂加压后，注入磁性清洗装置，导流槽将清洗剂沿垂直KDP晶体表面的运动转化为平行KDP晶体表面的运动，避免了垂直于KDP晶体表面的冲击力引起KDP晶体表面产生裂纹、损伤。清洗过程中，清洗剂射流的冲蚀作用一方面加速清洗剂对抛光液的溶解，另一方面利用清洗剂射流的冲蚀动能去除KDP晶体表面被清洗剂溶解的抛光液和游离的铁粉等残留物；磁性清洗装置的磁力吸引附着在KDP晶体表面的铁粉，并且与清洗剂射流的冲蚀力共同作用将附着或嵌入KDP晶体表面的铁粉拔出、去除。

主权项

一种大尺寸KDP晶体表面磁‑射流清洗装置，其特征在于：包括固定装置和清洗轮，所述固定装置为中空的柱体，中空的部分为第一清洗液通道；所述清洗轮由强力磁铁制成，包括第一横截面和第二横截面，所述清洗轮通过第一横截面的中部固定在所述固定装置一端的横截面上，所述清洗轮的中部也设有与所述固定装置上的第一清洗液通道共轴相通的第二清洗液通道；所述清洗轮的第二横截面设有与所述第二清洗液通道相通的导流槽，所述导流槽与所述第二清洗液通道之间的连接为弧形连接，所述导流槽以所述清洗轮的第二横截面的圆心为一端点，在所述清洗轮的第二横截面呈发散状分布。